濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差（因?yàn)槭敲}沖濺射），晶向（外沿）生長(zhǎng)的控制也比較一般。

多功用磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結(jié)薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氣氛下進(jìn)行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。蒸騰鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)驗(yàn)等工藝全封閉制造，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器材制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氣氛的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高功用、大面積有機(jī)光電器材和電路的制備。

關(guān)于真空鍍膜機(jī)所用的塑料材料，需要與膜層結(jié)合性高，放氣量小，受熱穩(wěn)定，一起滿意這三個(gè)條件的塑料資料是十分少的，但塑料資料在工業(yè)出產(chǎn)中的應(yīng)用卻十分廣泛，所以塑料真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用也隨之發(fā)展起來(lái)，為了使更多的塑料投入到真空鍍膜中，常常經(jīng)過(guò)各種方法改善。