氧化鋁拋光液是一種常用的表面處理劑，廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、塑料等材料的拋光過程中。它由氧化鋁微粒和穩(wěn)定劑組成，具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。

穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應(yīng)不同材料的拋光需求。

氧化鋁拋光液作為一種常用的表面處理劑，具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。正確選擇和使用拋光液，可以提高材料的表面質(zhì)量和光潔度，達(dá)到預(yù)期的拋光效果。

目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于藍(lán)寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。

氧化鋁拋光液，涉及半導(dǎo)體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調(diào)節(jié)劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預(yù)處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質(zhì)。