蝕刻（etching）又稱為光化學(xué)蝕刻，是把材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)，可分為濕蝕刻（wet etching）和干蝕刻（dry etching）兩種類型。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

板子上下兩面以及板面上各個部位的蝕刻均勻性是由板子表面受到蝕刻劑流量的均勻性決定的。蝕刻過程中，上下板面的蝕刻速率往往不一致。一般來說，下板面的蝕刻速率上板面。因為上板面有溶液的堆積，減弱了蝕刻反應(yīng)的進(jìn)行?？梢酝ㄟ^調(diào)整上下噴嘴的噴啉壓力來解決上下板面蝕刻不均的現(xiàn)象。蝕刻印制板的一個普遍問題是在相同時間里使全部板面都蝕刻干凈是很難做到的，板子邊緣比板子中心部位蝕刻的快。采用噴淋系統(tǒng)并使噴嘴擺動是一個有效的措施。更進(jìn)一步的改善可以通過使板中心和板邊緣處的噴淋壓力不同，板和板后端間歇蝕刻的辦法，達(dá)到整個板面的蝕刻均勻性。

蝕刻的必要性主要在于它能夠通過化學(xué)或電化學(xué)作用，將金屬或其他材料的表面轉(zhuǎn)化為所需要的形狀和圖案。這種技術(shù)不僅能夠大大簡化產(chǎn)品的制造過程，還可以提高產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性。通過選擇合適的蝕刻劑和工藝參數(shù)，還能實現(xiàn)對材料表面的保護(hù)和加工，使其具有更強的耐腐蝕性、耐磨損性等特性。