超純水設備主要用途：
1、超純材料和超純試劑的生產和清洗；
2、電子產品的生產和清洗；
3、電池產品的生產；
4、半導體產品的生產和清洗；
5、電路板的生產和清洗；
6、其他高科技精細產品的生產。

超純水設備應用系統(tǒng):
1. 電子、半導體行業(yè):為電子行業(yè)制造純水、超純水機，如單晶硅半導體集成電路塊、顯像管、玻璃殼、液晶顯示器等。
2. 制藥工業(yè)用水:制藥及制劑工藝用水、醫(yī)用血液透析用水、生化分析用水、輸液用水等。
3.鍋爐水處理:石油、化工、煉油、火電、電力、供熱、冶金、食品、造紙等工礦企業(yè)高、中、低壓鍋爐的軟化水、脫鹽水。
4. 飲料行業(yè):飲用純凈水、蒸餾水、天然水、礦泉水、礦化水、白酒調配純凈水、啤酒糖化用水、純生啤酒過濾用水等。
5. 酒店、樓宇、社區(qū)供水網(wǎng)絡系統(tǒng)及游泳池水質凈化。
6. 電鍍工藝用去離子水、電池(電池)生產工藝用純凈水、汽車、家電、建材表面涂裝及清潔用水、鍍膜玻璃用純凈水、紡織印染工藝用脫硬鹽水的制備。
7. 石油化工:如化學反應冷卻、化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品制造過程的純凈水

EDI超純水設備工藝流程
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)。
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(新工藝)。
3、預處理→反滲透→加機(PH調節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(新工藝)。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(新工藝)。
5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)以上工藝各有各的優(yōu)勢，你可以根據(jù)你自身的情況選購適合你的工藝。隨著科學的發(fā)展，很多新的工藝已經(jīng)替代了舊的工藝。用反滲透法制取高純水已經(jīng)普及，也是為現(xiàn)今的工藝。

EDI超純水設備與混合離子交換技術相比，EDI技術具有以下優(yōu)點:
1 .水質穩(wěn)定。
2、易于實現(xiàn)全自動控制。
3 .不會因為再生而停止。
4 .不需要化學再生。
(5)運行成本低。
廠房的面積很小。
7、無污水排放

EDI超純水設備產品特點：采用全自動化控制，一體化設計，模塊化安裝，能耗低，占地面積小。純水設備系統(tǒng)采用RO反滲透技術并融入穩(wěn)流控壓技術，與前置預處理配套使用，利用反滲透原理，有效去除水中各種鹽份及雜質；系統(tǒng)具有產水水質穩(wěn)定、操作簡便、運行費用低、綠色環(huán)保、維護方便等優(yōu)點。

plc自動化電氣控制柜電控產品可編程協(xié)議 一用一備控制設備

電力系統(tǒng)由發(fā)電、輸電、變電、用電組成。實現(xiàn)自動化少不了磁力。主回路控制用斷路器，機構箱主要是彈操及磁操機構。主回路運行狀態(tài)由PT,CT(單相、三相五柱電壓互感器,電流互感器,零序電流互感器等,)釆樣監(jiān)控，二次控制有過流,失流,過壓,欠壓,高頻,低頻,方向,溫度,瓦斯,差動,零序,諧波,波形等繼電器來實現(xiàn)或報警或限制或跳閘來實現(xiàn)自動化。

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