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專利文獻(xiàn)CN1205362C公開了 一種直拉硅單晶爐熱場的氣流控制方 法及裝置，其包括在單晶爐晶體生長室內(nèi)的石墨加熱器和保溫筒間裝有密 封導(dǎo)氣裝置，使含有一氧化硅的氣體的氣流經(jīng)密封導(dǎo)氣裝置的導(dǎo)氣管 及排氣口，在真空泵的作用下，排出爐外。密封導(dǎo)氣管裝置由導(dǎo)氣管、底 座、密封環(huán)、排氣口所組成，安裝在石墨加熱器和保溫筒之間。上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處在于單晶爐的坩堝支持器下方的混合氣體 不能有效的排出，從而使混合氣體中的一氧化硅對加熱器和坩堝進(jìn)行腐蝕， 影響單晶爐的使用壽命。且其向爐內(nèi)充入時的充氣氣壓在1. 3xi0a 以上，導(dǎo)致其流量較大，故而消耗量大，生產(chǎn)成本較高。

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本發(fā)明可通過加料器升降驅(qū)動裝置和加料器旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置將外部加料器移出工作位并旋開，進(jìn)而方便拆爐和清理，本發(fā)明的加料器升降驅(qū)動裝置和加料器旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置配上工裝還可以吊裝主爐室的零部件；、本發(fā)明可通過副爐室升降驅(qū)動裝置和副爐室旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置驅(qū)動副爐室移動，并在副爐室移取晶位的過程中，通過電動接晶托防止晶棒掉落，安全；、當(dāng)不再繼續(xù)加料時，通過化料器升降驅(qū)動裝置將外部化料器提升不干涉主爐室坩堝上升的位置，并通過化料器旋臂的旋轉(zhuǎn)旋開外部化料器，進(jìn)而方便拆爐和清理；、本發(fā)明通過減震裝置對下驅(qū)動裝置進(jìn)行減震，使拉晶時下驅(qū)動裝置不受外界震動影響，進(jìn)而保晶棒質(zhì)量。分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，浮力提拉單晶爐提拉機(jī)構(gòu)特性分析\一、引言 浮力提拉單晶爐(簡稱FTD)是利用浮力原理設(shè)計成的提拉式單晶爐帕,十多年來,用它先后生長成功了多種晶體〔2一5〕。這種爐子容易制造,成本低,易于推廣,目前國內(nèi)已有幾個廠家使用它生產(chǎn)泥酸鏗單晶。作為一種發(fā)明,FTD也受到肯定和重視?？墒?FTD在問世以后,卻沒有進(jìn)行深入探討。雖然FTD的設(shè)計有過幾次變化,但由于沒有掌握設(shè)計的則,致使FTD存在不同程度的提拉不均勻現(xiàn)象,嚴(yán)重地影響了它的推廣普及。為了改善它的提拉特性,我們研究了FTD浮力提拉原理,對多臺FTD作了分析對比,由此找出了提拉不均勻性產(chǎn)生的根源;明確了FTD提拉機(jī)構(gòu)的設(shè)計要領(lǐng)。希望這-一卜作能夠推動FTD的發(fā)展.并有助于單晶的生長研究和生產(chǎn)。二、FTD浮力提拉原理、提拉不均性的產(chǎn)生習(xí)C^l 奮幽1吮止~乙二丁~二二二Dr1.甲一一一一一一1。}