產(chǎn)品名稱：鉬靶材
純度: 99.95%
密度：≥10.2g/cm3
尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制）
外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛刺等
用途：用于制作真空高爐用發(fā)熱部件、隔熱部件，在化學(xué)工業(yè)中可用于制作蒸煮器、加熱器、冷卻器、各種器皿器件等，以及在航空、航天工業(yè)、醫(yī)療器械等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。
在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
濺射鍍膜的主要應(yīng)用于：平板顯示器、鍍膜玻璃工業(yè)(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學(xué)薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質(zhì)、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。
可以根據(jù)用戶的要求提供以下尺寸的鉬濺射靶材:
板靶材: 單重:≤200kg/pc, 純度:≥99.95%
管靶材: 長度:≤Φ165mmΧ1000mm ,純度:≥99.95%
公司：洛陽高新四豐電子材料有限公司
聯(lián)系人：王經(jīng)理

查看全部介紹