真空鍍膜機是一種用于在材料表面上制備薄膜的設(shè)備。它通過在真空環(huán)境下,利用蒸發(fā)、濺射、離子束等方法,將材料蒸發(fā)或濺射到基材表面上,形成一層薄膜。
真空鍍膜機通常由真空腔體、加熱系統(tǒng)、蒸發(fā)源、濺射源、離子源、氣體控制系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。在真空腔體中,通過抽氣系統(tǒng)將氣體抽走,形成高真空環(huán)境。加熱系統(tǒng)用于提供蒸發(fā)源或濺射源所需的熱能,使材料蒸發(fā)或濺射到
卷繞式真空鍍膜機設(shè)備是一種用于在卷繞材料表面進行薄膜鍍覆的設(shè)備。它通常由以下幾個主要組成部分構(gòu)成:
1. 卷繞系統(tǒng):用于將卷繞材料(如卷繞紙、塑料薄膜等)從卷軸上展開,并將鍍膜后的材料重新卷繞到卷軸上。
2. 真空腔體:提供一個真空環(huán)境,用于進行薄膜鍍膜過程。真空腔體通常由不銹鋼材料制成,并具有密封性能,以確保在真空操作期間不會泄漏。
3. 蒸發(fā)源:用于蒸發(fā)鍍膜材料,產(chǎn)生蒸汽或離子,以在卷繞材料表面形成薄膜。常見的蒸發(fā)源有電子束蒸發(fā)源和磁控濺射源等。
4. 控制系統(tǒng):用于控制整個設(shè)備的運行,包括真空度、蒸發(fā)源功率、卷繞速度等參數(shù)的調(diào)節(jié)和監(jiān)控。
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