在紫外光照射下，吸收了光能量的光引發(fā)劑分解成游離基引發(fā)單體進行光聚合反應，形成不溶于稀堿的溶液的體型分子。要使每種干膜聚合效果好，就有一個佳的曝光量。從光能量的定義公式可知，總曝光量E是光強度I和曝光時間T的乘積。若光強度I不變，則曝光時間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時，由于聚合不，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結合不良；若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間，每種類型的干膜在起用時應按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。
反轉顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同。顯影時，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。這樣感光鼓表面不可見的靜電潛像，就變成了可見的與原稿濃淡一致的不同灰度層次的色粉圖像。在靜電復印機中，色粉的帶電通常是通過色粉與載體的摩擦來獲得的，名稱后色帶電極性與載體帶電極性相反（單組份顯影劑中，僅有碳粉，碳粉與出粉刀摩擦帶電）。
干膜曝光顯影是pcb板制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在pcb板上刻畫幾何圖形結構，隨著關鍵尺寸的不斷縮小，pcb板制造對顯影工藝的要求也越來越高，顯影工作液重要性隨著工藝的進步日漸得到重視。
干膜為一種含羧基的有機物，也會含有一些金屬離子（如ca2+和mg2+），傳統(tǒng)的是用碳酸根去作用羧基，去除有機物，但是缺陷在于碳酸根容易反應產生沉淀（如碳酸鈣和碳酸鎂），粘連到板子上，粘上去的這塊區(qū)域在后續(xù)的去膜中去不掉，被當作線路了（本來這塊不是線路），造成短路。
PCB 顯影的原理是利用光敏膠層的化學反應性質。在制作 PCB 的過程中，需要將電路圖案打印在透明膠片上，然后將透明膠片與光敏膠層貼合在一起，通過紫外線曝光將電路圖案轉移到光敏膠層上。曝光后，光敏膠層中未曝光的部分仍然是可溶的，而曝光過的部分則變得不可溶。
顯影液的濃度、溫度和顯影時間都是非常重要的。如果濃度太高或溫度太高，顯影液會過于強烈地溶解光敏膠層，導致電路圖案變形或失真。如果濃度太低或溫度太低，顯影液則無法有效地溶解未曝光的部分，導致電路圖案不清晰或不完整。因此，顯影液的濃度、溫度和顯影時間嚴格控制，以確保 PCB 的質量和穩(wěn)定性。
顯影是指用還原劑把軟片或印版上經過曝光形成的潛影顯現(xiàn)出來的過程。PS版的顯影則是在印版圖文顯現(xiàn)出來的同時，獲得滿足印刷要求的印刷版面和版面性能。顯影機是將曬制好的印版通過半自動和全自動的程序將顯影、沖洗、涂膠、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷處理設備。
顯影機一般由傳動系統(tǒng)、顯影系統(tǒng)、沖洗系統(tǒng)、烘干系統(tǒng)、程序控制系統(tǒng)等部分組成。
傳動系統(tǒng)
傳動系統(tǒng)是引導印版運行的驅動裝置。是由電機通過蝸輪蝸桿或鏈輪鏈條帶動傳送輥轉動，并通過對壓膠輥驅動使印版通過顯影機的各個工作環(huán)節(jié)。
顯影系統(tǒng)
印版顯影過程中，經過循環(huán)顯影液均勻、連續(xù)地噴淋，將印版空白部位的感光層迅速溶解，有的顯影機還加有刷輥刷洗，加速這種溶解。為了顯影液在恒定條件下工作，此部分還有加熱器和冷卻器，可自動調節(jié)溫度（一般控制在25℃左右）。藥液自動循環(huán)過濾，各處藥液濃度和溫度均勻一致。
沖洗系統(tǒng)
沖洗系統(tǒng)主要是由兩組噴淋管向版面正反面噴淋清水，以除去附著在版面上的顯影生成物和多余的顯影液，并通過擠壓輥擠去版面上的水分；同時具備二次水洗功能。
涂膠系統(tǒng)
涂膠系統(tǒng)主要功能是在顯影后的版面上涂上一層均勻的保護膠。
干燥系統(tǒng)
干燥系統(tǒng)由送風管和膠輥組成，通過吹風和加熱使印版迅速干燥，后將印版送出。
調整刷輥壓力
毛刷干凈柔韌，無毛刺，不劃傷版面
根據(jù)測試結果調節(jié)壓力，網(wǎng)點還原
壓力盡可能小，壓力大版材難通過，實地和小網(wǎng)點容易損失
毛刷輥旋轉方向與版材前進方向相逆，有利于顯影效果
根據(jù)版材厚度范圍調節(jié)，顯影寬容度
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