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蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。?
對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經歷成膜過程,終形成薄膜。
在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。?
濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。
3. 開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動,真空計開關換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后,關予抽,開前機和
高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關,延時、電源及保護燈亮,三分鐘后延時及保護燈滅,若后門未關好或水流繼電器有故障,保護燈會常亮。
3. 開高壓,高壓會達到10KV以上,調節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉電流在1~1.7之間擺動。 1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時,依次關高閥、前級、機械泵,這期間約需40分鐘。
真空蒸發(fā)鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩膜仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術、裝璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式鞋后跟等領域,
JTPZ多功能鍍膜技術及設備(加有射頻等離子體聚合的蒸發(fā)鍍膜機),針對汽車、摩托車燈具而設計的,在一個真空室內完成蒸發(fā)鍍鋁和射頻等離子體鍍保護膜,這種鍍膜后燈具具有“三防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用于光學產品、磁記錄介質、軍事保護膜;防潮增透膜;防銹抗腐蝕;耐磨增硬膜。
發(fā)黑通常是由于過早氧化造成的。泛黃一般是因為鋁源中含有雜質過多,一般純度應在4 N或5N以上。無論是涂布機的真空度不達標,都要達到10—7倍Pa。(不準確)。涂敷物品的清洗不,表面殘留有清潔劑和水。被涂物品表面溫度不合理,溫度過高或過低。涂層項目的潛在設置不合理。真空擴散泵油應更換。調節(jié)蒸發(fā)源的溫度,不能太低或太高。如果電子束蒸發(fā),電子束的轟擊位置也應該調整。
1)所需設備:CCZK-1850SFL連續(xù)式磁控鍍膜流水線
2) 獲得膜層:一層或多層金屬,合金或金屬化合物膜層
3)涂裝流程: 玻璃產品的前處理清洗過程---進片上線臺---粗抽室---過渡室---精抽室---緩沖室---鍍膜室---后緩沖---精抽室---過渡室---粗抽室---出片下線臺---淋漆流水線(如果需要)---包裝成品
4)基本配置:
1.腔體結構:采用的臥式連續(xù)磁控鍍膜流水線,配備前后粗抽室,前后過渡室,前后精抽室,前后緩沖室,彩鍍室。
2.腔體材質:碳鋼
3.靶材設計:采用新型旋極靶材以及平面陰極靶材。
4.電源配置:配備大功率中頻或直流磁控濺射電源
5.電氣控制:生產線采用PLC全過程控制,配備工業(yè)計算機人機交互系統(tǒng),快速的節(jié)拍設計。
6.人機對話:控制系統(tǒng)能實現(xiàn)人、機對話,及時對生產過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示,故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。
7.傳動系統(tǒng):滾軸傳動,變頻可調
8.可鍍膜玻璃或平板,尺寸可定制
9. 生產線安采用了的插板閥進行腔室隔斷,可以實現(xiàn)有效隔斷,穩(wěn)定工藝氣體。
10.生產線采用了均勻進氣管結構設計,氣流注入均勻平緩;
11.泵抽系統(tǒng):擴散泵組或分子泵組+機械泵+羅茨泵
5)需求配套設施:
現(xiàn)場實際運行證明丹佛斯FC302驅動器+MCO305運動控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過原來的控制方式,大大減少了原材料的浪費??刂葡到y(tǒng)調試和參數設置都比較方便。令客戶滿意的是電機可以采用比較經濟的交流異步電機,在張力控制精度要求更高的場合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅動異步電機,又能驅動同步電機,系統(tǒng)升級時只需簡單地更換電機即可。
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