化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
真空鍍膜機應在真空過程前對真空材料進行清洗，去除工件或系統(tǒng)材料表面的污染物;車燈鍍膜機零部件表面的清潔也是很有必要的，因為污染物引起的氣體和蒸氣源不僅會使真空系統(tǒng)無法獲得所需的真空度。而且由于污染物的存在，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。
暴露在空氣中的真空鍍膜機表面容易受到污染。污染源有很多，初的污染通常是地表本身的一部分。吸附現(xiàn)象、化學反應、浸出干燥過程、機械處理、擴散和偏析過程都增加了各種組分的表面污染物。真空材料表面的常見污染物如下。
?、儆椭?潤滑劑、切削液、真空油脂等。在加工、組裝和操作過程中被污染;
?、谒?操作時的手汗、吹氣時的水蒸氣、唾液等。
?、郾砻嫜趸?材料長時間放置在空氣中或潮濕空氣中形成的表面氧化物;
④酸、堿、鹽類物質:清洗時的殘留物質、手汗、水中的礦物質等。
⑤環(huán)境空氣中的拋光殘渣、灰塵和其他有機物等。
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