3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。
5. 觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達250以后，關予抽，開前機和
高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮，三分鐘后延時及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。
3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動。 1. 關高真空表頭、關分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時，依次關高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。
離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模具內(nèi)部、明顯提高表面硬度、抗疲勞等性能和耐腐蝕性，相對于總體滲氮處理時間短、濕度低、變形小、表面性能可控，可用于各種鋼鐵及鈦合金結(jié)構(gòu)件，各種模具和各種不銹鋼制品。
等離子體化學氣相沉積設備與技術(離子滲氮，氮碳共滲)
等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈沖直流等離子體輔助沉積硬質(zhì)鍍膜新技術。在一定壓力、溫度的真空爐內(nèi)，加入適當比例的不同工作氣體，在脈沖電壓的作用下，通過輝光放電產(chǎn)生均勻等離子體。在不同工藝條件下，可在被處理工件表面形成各種硬質(zhì)膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層復合膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。
現(xiàn)場實際運行證明丹佛斯FC302驅(qū)動器+MCO305運動控制器的解決方案完夠滿足真空鍍膜機的卷繞控制要求。整機加減速速度超過原來的控制方式，大大減少了原材料的浪費?？刂葡到y(tǒng)調(diào)試和參數(shù)設置都比較方便。令客戶滿意的是電機可以采用比較經(jīng)濟的交流異步電機，在張力控制精度要求更高的場合才需要升級使用交流永磁同步電機。由于FC302既能驅(qū)動異步電機，又能驅(qū)動同步電機，系統(tǒng)升級時只需簡單地更換電機即可。
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