AMC對當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只要確定粒徑及個數(shù)，但對AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及園片傳送系統(tǒng)等的影響，更有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學(xué)品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子對下一工序往往可能是污染物，而園片加工工序當(dāng)前已多于3多個立工序，對AMC控制指標(biāo)的確定更是復(fù)雜。IC生產(chǎn)對AMC的控制，對不同的產(chǎn)品、不同的工藝、不同的工序及不同的工藝材料會有不同的要求，對各種污染物質(zhì)的要求當(dāng)前總的說法是控制在亞pptm～1pptm間。
所屬分類：供熱/采暖設(shè)備/鍋爐
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