工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導電性，而且增強了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來越好，EDI去離子水設(shè)備的應用也越來越廣泛。
在維護中，需要注意哪些問題？
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超純水在光學領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會影響電子管的質(zhì)量。因此，應使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學元件用水要求，對超純水處理技術(shù)進行了全自動 EDI超純水處理、預處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護等方面均有較好的應用前景。改進工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行費用。

EDI超純水設(shè)備的使用壽命與其使用方法密切相關(guān)，如果維護保養(yǎng)得當?shù)脑?，各部件將承受相對較小的運行壓力，因此它的性能更穩(wěn)定且使用的壽命更長。那么在設(shè)備工作的期間，該如何長期去維護保養(yǎng)呢？下面讓我們來認識一下吧。

維護保養(yǎng)的方法
1. 如果沒有閱讀用戶手冊并接受相關(guān)的操作培訓，請不要嘗試操作EDI超純水設(shè)備，若不按本手冊步驟操作，可能會對設(shè)備造成嚴重的傷害。
2. 隨意拆卸EDI或拆除定位螺栓和操作和使用不當?shù)脑?，可能導致嚴重的人身傷害和保修服務故障?br /> 3. 當需要在EDI超純水設(shè)備在附近工作時，請斷開直流電源，以免觸電。操作過程中，用水取出所有熱量，檢查淡水進水閥、濃水排放閥和極水排放閥的開啟情況，否則會燃燒EDI膜塊，造成不可彌補的損壞。緩慢調(diào)節(jié)閥門，避免水錘損壞膜塊。
4. 日常維護是在系統(tǒng)維護的基礎(chǔ)上，用戶在使用設(shè)備時應標準化、制度化，并按照相關(guān)操作程序和工作計劃實施，這樣才能有效設(shè)備系統(tǒng)的長期穩(wěn)定運行。
5. EDI純水設(shè)備在工作的過程中，設(shè)備的表面經(jīng)常吸收大量的微生物、顆粒物等雜質(zhì)。清洗方法是維護過程中重要的步驟，不僅能夠恢復設(shè)備的性能，還可以延長設(shè)備的使用壽命。實際使用過程中根據(jù)進水情況可調(diào)整系統(tǒng)的運行時間和清洗時間。