工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來越廣泛。
在維護中，需要注意哪些問題？
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工業(yè)EDI去離子水設(shè)備。
維修注意事項。
1、做好登記工作，方便日后備查；
2、設(shè)備完全智能化，但仍需不定期人工檢查設(shè)備運行情況；
3、設(shè)備的自潔環(huán)節(jié)至關(guān)重要，要定期檢查運行是否正常；
4.定期更換濾芯；
5、定期監(jiān)測反滲透主機運行時的壓力、流量、水質(zhì)指標(biāo)；
6、注意水質(zhì)，如果水質(zhì)太差，會導(dǎo)致設(shè)備損壞。

EDI模塊的維護主要是針對出水量下降、水質(zhì)惡化等問題，是對EDI進行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應(yīng)用過程中，EDI模塊可能因外部壓力過大或內(nèi)部故障而需要維修。
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（1）常用配件如EDI樹脂、陰陽膜片、陰陽極板、框架隔板密封圈等，均******產(chǎn)品，延長膜塊的使用壽命。

（2）常見問題如EDI氧化、EDI接頭斷裂、內(nèi)部發(fā)熱燒壞、純水室污堵、濃水室積垢、隔板漏水、內(nèi)部老化等造成的EDI水質(zhì)下降、流量下降、漏水漏電等，均能夠有效修復(fù)，修復(fù)后EDI膜塊的性能和質(zhì)量均能達到甚至超過原品。

-LXM30Z運行參數(shù)及產(chǎn)水水質(zhì)

典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率 90-95%
允許進水壓力上限 7bar（100psi）
允許進水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率 >16MQ.cm（見下面說明）
說明：實際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進水條件

EDI電源有什么作用？

　　EDI電源為配套水處理EDI模塊直流電源。無論是單模塊系統(tǒng)或多組模塊系統(tǒng)，該電源配套使用為一個EDI模塊配一組立電源系統(tǒng)的一對一工作方式，確保每個EDI模塊具有立的電源供給系統(tǒng)。該EDI電源的交流供電系統(tǒng)可以配裝交流控制部分，以實現(xiàn)與EDI前端設(shè)備的程序控制；EDI在水處理系統(tǒng)正常情況下才能實現(xiàn)交流供電。不致因斷水、壓力過高、進水水質(zhì)差等情況下供電，這種情況下切斷 EDI 電源的交流電源。同時，該電源本身配置了斷水保護電路，在典型安裝 中，保護電路中連接一個或多個水流繼電器，當(dāng)沒有水時，系統(tǒng)或模塊 全部或個別缺水時，防止EDI電源送電。這個操作沒有切斷交流電源。EDI電源可以輸出不同的電壓、電流等級，為配套各種型號CEDI模塊提供選擇。